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HMDS鍍膜機，黃光區(qū)鍍膜設(shè)備通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

硅片HMDS涂布機臺，4寸Wafer hmds烤箱是將 HMDS 涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

HMDS鍍膜烤箱，HMDS真空鍍膜系統(tǒng)預處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達4盒的晶片；更加節(jié)省藥液；低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能；，有可自動吸取添加HMDS功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。

智能型HMDS烤箱定做，不銹鋼HMDS烘箱預處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達4盒的晶片；更加節(jié)省藥液；低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能；，有可自動吸取添加HMDS功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。

將HMDS涂到樣品表面后，經(jīng)烘箱加溫可生成硅氧烷為主的化合物，將樣品表面由親水性變?yōu)槭杷裕耸杷阅蹾MDS烘箱，hmds預處理烘箱夠很好的與光刻膠結(jié)合，增加了樣品表面與光刻膠的粘附作用。

HMDS真空烘箱處理系統(tǒng)：性能更好，由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮氣置換再進行的HMDS處理，所以不會有塵埃的干擾，再者，由于該系統(tǒng)是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝，同一個容器中進行，晶片在容器里先經(jīng)過100℃-160℃的去水烘烤，再接著進行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機會大大降低，所以有著更好的處理效果。

HMDS真空烘箱預處理性能更好，由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮氣置換再進行的HMDS處理，所以不會有塵埃的干擾，再者，由于該系統(tǒng)是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝，同一個容器中進行，晶片在容器里先經(jīng)過100℃-160℃的去水烘烤，再接著進行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機會大大降低，所以有著更好的處理效果。